射影射

同義語:projective morphism射影的な射

概要

射影射(projective morphism)とは、スキームの射 $f\colon X\to Y$ のうち、閉埋め込み $X\to\mathbb{P}^n_Y$ と射影 $\mathbb{P}^n_Y\to Y$ の合成として書けるもの、すなわち $X$ が $Y$ 上の射影空間の閉部分スキームになる射をいう。EGA では射影束 $\mathbb{P}(\mathcal{E})$ への閉埋め込みを用い、底がアフィンなら両者は一致する。射影射は固有で、合成・底変換で閉じ、閉埋め込み・有限射・ブローアップがその例である。Noether 環上固有なスキームの射影性は豊富な可逆層をもつことと同値で、射影スキーム上の連接層のコホモロジーは有限生成になる。アフィン直線は射影的でなく、固有だが射影的でない射(Hironaka の例)もあるが、Chow の補題により固有射は射影射に双有理に支配される。

$$\newcommand{C}[0]{\mathbb{C}} \newcommand{N}[0]{\mathbb{N}} \newcommand{Q}[0]{\mathbb{Q}} \newcommand{R}[0]{\mathbb{R}} \newcommand{Z}[0]{\mathbb{Z}} $$

前提知識: スキーム, 射影空間, 閉埋め込み, 準連接層, Proj, 可逆層, 固有射, 底変換

定義

射影射は、スキームの射 $f\colon X\to Y$ のうち、$X$ が底 $Y$ 上の射影空間(またはその一般化である射影束)の閉部分スキームとして実現できるものをいう。「$k$ 上の射影多様体」を「$Y$ 上の相対的な射影多様体」に一般化した概念であり、固有射(固有射)の最も重要な例を与える。文献によって定義に 2 つの流儀があるので、まず Har77 の定義を述べ、次に EGA2 の定義を述べて両者の関係を注意する。

射影射と準射影射(閉埋め込みによる定義)

$Y$ をスキーム、$n\ge0$ とし、$Y$ 上の射影空間を
$$ \mathbb{P}^n_Y:=\mathbb{P}^n_{\mathbb{Z}}\times_{\operatorname{Spec}\mathbb{Z}}Y,\qquad \mathbb{P}^n_{\mathbb{Z}}=\operatorname{Proj}\mathbb{Z}[x_0,\dots,x_n] $$
とおく(ファイバー積)。スキームの射 $f\colon X\to Y$ が射影的(projective)である、または射影射(projective morphism)であるとは、ある $n\ge0$ と閉埋め込み $i\colon X\to\mathbb{P}^n_Y$ が存在して、$f$ が $i$ と射影 $p\colon\mathbb{P}^n_Y\to Y$ の合成 $f=p\circ i$ に等しいことをいう。$f$ が準射影的(quasi-projective)であるとは、開埋め込み $j\colon X\to X'$ と射影射 $g\colon X'\to Y$ が存在して $f=g\circ j$ と書けることをいう。
$f\colon X\to Y$ が射影的(準射影的)であるとき、$X$ を $Y$ 上の射影スキーム(準射影スキーム)という。$Y=\operatorname{Spec}A$ のときは「$A$ 上射影的」といい、とくに体 $k$ 上の射影スキームで整スキームであるものを $k$ 上の射影多様体という。

この定義は Har77 II §4 のものである。$\mathbb{P}^n_Y$ は $Y$ のアフィン開集合 $\operatorname{Spec}B$ の上では $\mathbb{P}^n_B=\operatorname{Proj}B[x_0,\dots,x_n]$ であり、$n+1$ 個のアフィン開集合 $D_+(x_i)=\operatorname{Spec}B[x_0/x_i,\dots,x_n/x_i]$ で覆われる。閉埋め込みはイデアル層 $\mathcal{I}\subset\mathcal{O}_{\mathbb{P}^n_Y}$ を定めるので、$Y$ 上の射影スキームとは「$\mathbb{P}^n_Y$ の中で局所的に斉次多項式の族の零点として切り出された部分スキーム」のことである。準射影射は「射影スキームの開部分スキーム(開部分スキーム)からの射」である。閉埋め込みは開埋め込みでもある($X'=X$)から、射影射は準射影射である。
EGA2 は、$\mathbb{P}^n_Y$ の代わりに準連接層から作られる射影束を用いる。そのために相対的な Proj を思い出す。

相対Projと射影束

$Y$ をスキーム、$\mathcal{S}=\bigoplus_{d\ge0}\mathcal{S}_d$ を準連接な次数付き $\mathcal{O}_Y$ 代数(各 $\mathcal{S}_d$ が準連接層で、$\mathcal{S}_0=\mathcal{O}_Y$ とする)とする。$Y$ のアフィン開集合 $V=\operatorname{Spec}B$ ごとに次数付き環 $\mathcal{S}(V)$ の $\operatorname{Proj}\mathcal{S}(V)\to V$ を作り、$\operatorname{Proj}$ の構成の関手性によって貼り合わせて得られる $Y$ スキーム
$$ \pi\colon\mathbf{Proj}_Y\,\mathcal{S}\to Y $$
を $\mathcal{S}$ の相対 Proj という。$\mathcal{S}$ が $\mathcal{S}_1$ で生成されるとき、各 $\operatorname{Proj}\mathcal{S}(V)$ 上の可逆層 $\mathcal{O}(1)$ も貼り合わさり、$\mathbf{Proj}_Y\mathcal{S}$ 上の可逆層 $\mathcal{O}(1)$ を定める。
$\mathcal{E}$ を $Y$ 上の有限型の準連接層とするとき、その対称代数 $\operatorname{Sym}\mathcal{E}=\bigoplus_{d\ge0}\operatorname{Sym}^d\mathcal{E}$ の相対 Proj
$$ \mathbb{P}(\mathcal{E}):=\mathbf{Proj}_Y\operatorname{Sym}\mathcal{E}\to Y $$
を $\mathcal{E}$ に伴う射影束(射影束)という。$\mathcal{E}=\mathcal{O}_Y^{\oplus(n+1)}$ のとき $\operatorname{Sym}\mathcal{E}=\mathcal{O}_Y[x_0,\dots,x_n]$ であり、$\mathbb{P}(\mathcal{O}_Y^{\oplus(n+1)})=\mathbb{P}^n_Y$ である。

相対 Proj の構成と基本性質は Har77 II §7($Y$ が Noetherスキームで $\mathcal{S}_1$ が連接層、$\mathcal{S}$ が $\mathcal{S}_1$ で生成される場合)および EGA2 §3 に述べられている。$\mathcal{E}$ が階数 $r+1$ の局所自由層なら、$\mathbb{P}(\mathcal{E})$ は $Y$ 上局所的に $\mathbb{P}^r_V$ と同型なファイバー束である。

射影射(EGAの定義)

スキームの射 $f\colon X\to Y$ が EGA2 の意味で射影的であるとは、$Y$ 上の有限型の準連接層 $\mathcal{E}$ と $Y$ 上の閉埋め込み $i\colon X\to\mathbb{P}(\mathcal{E})$ が存在して、$f$ が $i$ と構造射 $\mathbb{P}(\mathcal{E})\to Y$ の合成に等しいことをいう。同じことだが、$X$ が $Y$ 上、$\mathcal{S}_1$ が有限型で $\mathcal{S}_1$ により生成されるような準連接な次数付き $\mathcal{O}_Y$ 代数 $\mathcal{S}$ の相対 Proj $\mathbf{Proj}_Y\mathcal{S}$ と同型であることをいう(EGA2 §5.5)。Stacks は def-projective-morphism の意味の射影射を H-射影的(H-projective)、この意味の射影射を単に射影的と呼んで区別している。

2 つの定義の言い換え($\mathbb{P}(\mathcal{E})$ への閉埋め込みと $\mathbf{Proj}_Y\mathcal{S}$ との同型)が同値であることは、$\mathcal{S}$ が $\mathcal{S}_1$ で生成されるとき全射 $\operatorname{Sym}\mathcal{S}_1\to\mathcal{S}$ が閉埋め込み $\mathbf{Proj}_Y\mathcal{S}\to\mathbb{P}(\mathcal{S}_1)$ を誘導すること(prop-projective-morphism-proj-surjection)と、逆に閉埋め込み $X\to\mathbb{P}(\mathcal{E})$ の像が斉次イデアル層 $\mathcal{J}$ で定まり $X\cong\mathbf{Proj}_Y(\operatorname{Sym}\mathcal{E}/\mathcal{J})$ となること(Har77 II 系 5.16、EGA2 §3.6)による。

2つの定義の差

def-projective-morphism の意味の射影射は def-projective-morphism-ega の意味でも射影的である($\mathcal{E}=\mathcal{O}_Y^{\oplus(n+1)}$ をとればよい)。逆は、$Y$ がアフィンスキームのとき、より一般に $Y$ が準コンパクトで豊富な可逆層をもつときには成り立つが(prop-projective-morphism-local-comparison、EGA2 §5.5、Stacks Morphisms of Schemes「Projective morphisms」の節)、一般の $Y$ では成り立たない(たとえば $Y=\coprod_{n\ge0}Y_n$($Y_n=\operatorname{Spec}k$)の上で第 $n$ 成分に $\mathbb{P}^n_k$ を載せた $Y$ スキーム $X=\coprod_n\mathbb{P}^n_k$ は、$\mathcal{E}|_{Y_n}=\mathcal{O}_{Y_n}^{\oplus(n+1)}$ とおいて $X=\mathbb{P}(\mathcal{E})$ となるので def-projective-morphism-ega の意味で射影的だが、$X\to\mathbb{P}^N_Y$ が閉埋め込みなら各成分で $\mathbb{P}^n_k$ が $\mathbb{P}^N_k$ の閉部分スキームになり $n\le N$ が要るから、どの $\mathbb{P}^N_Y$ にも閉埋め込みできない)。また def-projective-morphism-ega の意味の射影射はつねに $Y$ 上局所的に def-projective-morphism の意味で射影的である(prop-projective-morphism-local-comparison)。したがって、底が体やアフィンスキームである通常の代数幾何では 2 つの定義を区別する必要はなく、区別が要るのは一般の底の上で射影性が「局所的な性質か」「合成で閉じるか」を問うときである(thm-projective-morphism-permanence と rem-projective-morphism-ega-permanence)。本記事では断らない限り def-projective-morphism の意味で射影射という。

直感

体 $k$ 上のスキーム $X$ が射影的であるとは、$X$ が射影空間 $\mathbb{P}^n_k$ の中の斉次多項式の共通零点として書けることであり、これは「コンパクトな代数多様体を座標で具体的に扱える」ことを意味する。射影射はこの状況を「底 $Y$ の各点 $y$ の上に射影多様体(ファイバー $X_y\subset\mathbb{P}^n_{\kappa(y)}$)が載っていて、それらが $Y$ に沿って代数的に変化する族」に一般化したものである。射影射は固有射(thm-projective-morphism-proper)であり、固有射の中では「相対的な射影空間の座標」が使える分だけ扱いやすい。たとえば連接層のコホモロジーの有限性(thm-projective-morphism-serre)は、$\mathbb{P}^n$ 上の $\mathcal{O}(d)$ の計算に帰着して証明される。逆に固有射は Chow の補題により射影射に「双有理に支配される」ので、固有射に関する多くの定理は射影射の場合に帰着して証明される(rem-projective-morphism-chow)。

例と反例

射影空間とその閉部分スキーム

射影 $\mathbb{P}^n_Y\to Y$ 自身は射影射である($i=\mathrm{id}$)。$\mathbb{P}^n_Y$ の任意の閉部分スキーム $X$ について構造射 $X\to Y$ は射影射である。とくに体 $k$ 上では、斉次多項式 $F_1,\dots,F_r\in k[x_0,\dots,x_n]$ の零点として定まる閉部分スキーム $V_+(F_1,\dots,F_r)\subset\mathbb{P}^n_k$ が射影的である。たとえば射影直線 $\mathbb{P}^1_k$、平面 3 次曲線 $y^2z=x^3+axz^2+bz^3$(楕円曲線の射影モデル)、2 次超曲面はすべて $k$ 上射影的である。

次数付き環のProj

$A$ を環、$S=A[x_0,\dots,x_n]/I$($I$ は斉次イデアル)とすると、$\operatorname{Proj}S\to\operatorname{Spec}A$ は射影射である。実際、全射 $A[x_0,\dots,x_n]\to S$ が閉埋め込み $\operatorname{Proj}S\to\mathbb{P}^n_A$ を誘導する(prop-projective-morphism-proj-surjection)。より一般に、$A$ が Noether環で $S=\bigoplus_{d\ge0}S_d$ が $S_0=A$ 上有限生成な次数付き環なら、$\operatorname{Proj}S$ は $A$ 上射影的である。次数 $1$ で生成されるとは限らないが、十分大きい $d$ について Veronese 部分環 $S^{(d)}=\bigoplus_{m\ge0}S_{md}$ は $S^{(d)}_1=S_d$ で生成され、$\operatorname{Proj}S\cong\operatorname{Proj}S^{(d)}$ となるからである(Har77 II 演習 5.13、EGA2 2.4.7)。たとえば重み付き射影空間 $\mathbb{P}(1,1,2)=\operatorname{Proj}k[x,y,z]$($\deg x=\deg y=1$、$\deg z=2$)は、$S^{(2)}=k[x^2,xy,y^2,z]\cong k[u,v,w,z]/(uw-v^2)$ により $\mathbb{P}^3_k$ の 2 次錐面と同型で、$k$ 上射影的である。

射影束と有限射

$\mathcal{E}$ を $Y$ 上の有限型準連接層とすると、def-projective-morphism-ega により $\mathbb{P}(\mathcal{E})\to Y$ は EGA の意味で射影的である。$Y$ がアフィンなら def-projective-morphism の意味でも射影的である(prop-projective-morphism-local-comparison)。たとえば $\mathbb{P}^1_k$ 上の局所自由層 $\mathcal{E}=\mathcal{O}\oplus\mathcal{O}(-n)$ に伴う射影束 $\mathbb{F}_n=\mathbb{P}(\mathcal{E})\to\mathbb{P}^1_k$(Hirzebruch曲面)は $k$ 上射影的である。$\mathcal{E}(n)=\mathcal{O}(n)\oplus\mathcal{O}$ は $\mathcal{O}^{\oplus(n+2)}$ の商で $\mathbb{P}(\mathcal{E})\cong\mathbb{P}(\mathcal{E}(n))$(Har77 II 補題 7.9)なので $\mathbb{F}_n$ は $\mathbb{P}^{n+1}_{\mathbb{P}^1_k}$ の閉部分スキームであり、thm-projective-morphism-permanence の 1 による。
有限射 $f\colon X=\mathbf{Spec}_Y\mathcal{A}\to Y$($\mathcal{A}$ は $\mathcal{O}_Y$ 加群として有限型の準連接 $\mathcal{O}_Y$ 代数)も EGA の意味で射影的である。次数付き代数 $\mathcal{S}$ を $\mathcal{S}_0=\mathcal{O}_Y$、$\mathcal{S}_d=\mathcal{A}t^d$($d\ge1$)で定める(多項式代数 $\mathcal{A}[t]$ の、次数 $0$ の部分を $\mathcal{O}_Y$ に取り替えた部分代数)と、$\mathcal{S}$ は $\mathcal{S}_1=\mathcal{A}t$ で生成され($a\in\mathcal{A}$ について $at^d=(at)(1t)^{d-1}$)、$\mathcal{S}_1$ は有限型で、$t$ を含む斉次素イデアルは $(at)^2=(a^2t)t$ により $\mathcal{S}_+$ 全体を含むから $\mathbf{Proj}_Y\mathcal{S}=D_+(t)=\mathbf{Spec}_Y\mathcal{S}_{(t)}=\mathbf{Spec}_Y\mathcal{A}$ となるからである(EGA2 6.1.11)。したがって有限次の体の拡大 $\operatorname{Spec}L\to\operatorname{Spec}K$、正規化 $\operatorname{Spec}\tilde{A}\to\operatorname{Spec}A$($\tilde{A}$ が有限 $A$ 加群のとき)、$x\mapsto x^m$ で定まる $\mathbb{A}^1_k\to\mathbb{A}^1_k$ は射影射である(底がアフィンなので def-projective-morphism の意味でも射影的である)。

ブローアップと特異点解消の射影性

$X$ を Noether スキーム、$\mathcal{I}\subset\mathcal{O}_X$ を連接なイデアル層とすると、ブローアップ $\pi\colon\operatorname{Bl}_{\mathcal{I}}X=\mathbf{Proj}_X\bigoplus_{d\ge0}\mathcal{I}^d\to X$ は、$\mathcal{S}_1=\mathcal{I}$ が連接で $\mathcal{S}=\bigoplus\mathcal{I}^d$ が $\mathcal{S}_1$ で生成されるから、EGA の意味で射影的である。$X$ が体 $k$ 上の準射影多様体なら $\pi$ は def-projective-morphism の意味でも射影的で、$\operatorname{Bl}_{\mathcal{I}}X$ も $k$ 上準射影的である(Har77 II 命題 7.16)。$X$ が $k$ 上射影的なら $\operatorname{Bl}_{\mathcal{I}}X$ も $k$ 上射影的である(thm-projective-morphism-permanence の 1)。Hironaka の特異点解消 $X'\to X$(標数 $0$ の体上の代数多様体)はブローアップの有限回の合成として得られ、射影的な双有理写像である。

反例:アフィン直線と開埋め込み

体 $k$ 上のアフィン直線 $\mathbb{A}^1_k=\operatorname{Spec}k[x]$ の構造射 $\mathbb{A}^1_k\to\operatorname{Spec}k$ は射影的でない。仮に射影的なら、thm-projective-morphism-serre により $H^0(\mathbb{A}^1_k,\mathcal{O})=k[x]$ が有限次元 $k$ 線型空間でなければならないが、$1,x,x^2,\dots$ は線型独立なので矛盾する。同じ理由で、正の次元をもつアフィン多様体は射影的でない。一方、$\mathbb{A}^1_k$ は $\mathbb{P}^1_k$ の開部分スキーム $D_+(x_0)$ なので $k$ 上準射影的である。より一般に、射影スキーム $X'\to Y$ の開部分スキーム $U$ について開埋め込み $j\colon U\to X'$ は、$U$ が $X'$ の開かつ閉集合でない限り射影的でない。$j$ が射影的なら固有(thm-projective-morphism-proper)で像 $U$ が閉になるからである。破る含意:「準射影的ならば射影的」は成り立たない。射影射は準射影射のうち固有なものにほかならない(prop-projective-morphism-quasi-projective-proper)。

反例:射影的でない固有スキーム

射影射は固有射であるが、逆は成り立たない。Hironaka は、$\mathbb{C}$ 上完備(固有射)で非特異な 3 次元の代数多様体で射影的でないものを構成した(Har77 Appendix B 例 3.4.1)。構成の要点は、非特異射影 3 次元多様体の中で 2 点で交わる 2 本の曲線を、局所的に異なる順序でブローアップして貼り合わせることにある。得られる完備多様体 $X$ には、2 本の曲線の和である $0$ でない効果的 1 サイクル(代数的サイクル)$\ell$ で、代数的に $0$ と同値な(したがってすべての因子との交点数が $0$ になる)ものがあり、豊富な可逆層があれば $\ell$ との交点数が正でなければならないので(Har77 Appendix B 例 3.4.1、豊富な可逆層)、$X$ は豊富な可逆層をもたず射影的でない(cor-projective-morphism-ample)。Nagata は完備で射影的でない特異曲面を構成し、トーリック多様体にも完備で射影的でない非特異 3 次元多様体がある。一方、完備な代数曲線と完備で非特異な代数曲面はつねに射影的である(Zariski、Har77 II 注意 4.10.2)。破る含意:「固有ならば射影的」は成り立たない。

性質

射影射の固有性

射影射は固有である

射影射 $f\colon X\to Y$ は固有である。すなわち $f$ は分離射かつ有限型射で、任意の底変換が閉写像である。def-projective-morphism-ega の意味の射影射も固有である。

固有性の証明の所在

証明は 固有射 の記事に譲る。そこでは、閉埋め込みが固有であること、固有射が合成と底変換で閉じることを示したうえで、$\mathbb{P}^n_{\mathbb{Z}}\to\operatorname{Spec}\mathbb{Z}$ が固有であることを付値判定法で直接確かめている。EGA の定義に対しては、固有性が $Y$ 上局所的であることと prop-projective-morphism-local-comparison により同じ結果に帰着する。文献では Har77 II 定理 4.9、EGA2 §5.5、Liu02 3.3 節にある。

準射影射のうち固有なものが射影射である

$f\colon X\to Y$ を準射影射、$X\xrightarrow{j}X'\xrightarrow{g}Y$($j$ は開埋め込み、$g$ は射影射)をその分解とする。$f$ が固有ならば $j$ は閉埋め込みであり、したがって $f$ は射影射である。

像の閉性による証明

$g$ は射影的だから固有(thm-projective-morphism-proper)、とくに分離である。$f=g\circ j$ が固有で $g$ が分離なので、固有射 の記事の定理(合成・底変換・積で閉じること)の 4 により $j$ は固有であり、像 $j(X)$ は $X'$ の閉集合である。開埋め込み $j$ は $X$ から開部分スキーム $U=j(X)$ の上への同型であり、$U$ は $X'$ で開かつ閉である。このとき $j$ は閉埋め込みである。実際、$X'$ の各点 $x'$ について、$x'\in U$ なら $U$ 上で $j$ は同型、$x'\notin U$ なら開集合 $W=X'\setminus U$ 上で $j^{-1}(W)=\emptyset$ であり、いずれの開集合の上でも $j$ は閉埋め込みである。閉埋め込みであることは底の上で局所的な性質(閉埋め込み)だから $j$ は閉埋め込みである。$X'\to\mathbb{P}^n_Y$ を $g$ の分解に現れる閉埋め込みとすれば、合成 $X\to X'\to\mathbb{P}^n_Y$ は閉埋め込みで、$f$ はその合成と射影 $\mathbb{P}^n_Y\to Y$ の合成に等しい。

合成・底変換・積

射影射が合成で閉じることの鍵は、射影空間の積を射影空間に閉埋め込みする Segre 埋め込み(Segre埋め込み)である。

Segre埋め込みは閉埋め込みである

$n,m\ge0$、$N:=(n+1)(m+1)-1$ とし、$\mathbb{P}^N_{\mathbb{Z}}=\operatorname{Proj}\mathbb{Z}[z_{kl}\mid 0\le k\le n,\ 0\le l\le m]$ とおく。$U_{ij}:=D_+(x_i)\times D_+(y_j)\subset\mathbb{P}^n_{\mathbb{Z}}\times_{\mathbb{Z}}\mathbb{P}^m_{\mathbb{Z}}$ の上で
$$ \varphi_{ij}\colon U_{ij}=\operatorname{Spec}\mathbb{Z}\Bigl[\tfrac{x_k}{x_i},\tfrac{y_l}{y_j}\Bigr]\to D_+(z_{ij})=\operatorname{Spec}\mathbb{Z}\Bigl[\tfrac{z_{kl}}{z_{ij}}\Bigr],\qquad \frac{z_{kl}}{z_{ij}}\mapsto\frac{x_k}{x_i}\cdot\frac{y_l}{y_j} $$
で定まる射は貼り合わさって射 $\varphi\colon\mathbb{P}^n_{\mathbb{Z}}\times_{\mathbb{Z}}\mathbb{P}^m_{\mathbb{Z}}\to\mathbb{P}^N_{\mathbb{Z}}$(Segre 埋め込み)を定め、$\varphi$ は閉埋め込みである。したがって任意のスキーム $Y$ について、底変換 $\varphi_Y\colon\mathbb{P}^n_Y\times_Y\mathbb{P}^m_Y\to\mathbb{P}^N_Y$ も閉埋め込みである。

座標による証明

貼り合わせ:$U_{ij}\cap U_{i'j'}$ の上で $\varphi_{ij}$ と $\varphi_{i'j'}$ が一致することを示す。$\varphi_{i'j'}$ の像は $D_+(z_{i'j'})$ に含まれ、$U_{ij}\cap U_{i'j'}$ 上では $z_{ij}/z_{i'j'}$ の引き戻し $(x_i/x_{i'})(y_j/y_{j'})$ が単元なので、$\varphi_{i'j'}$ は $U_{ij}\cap U_{i'j'}$ を $D_+(z_{ij})\cap D_+(z_{i'j'})$ に写す。この開集合上で $z_{kl}/z_{ij}=(z_{kl}/z_{i'j'})/(z_{ij}/z_{i'j'})$ であり、$\varphi_{i'j'}$ による引き戻しは
$$ \frac{(x_k/x_{i'})(y_l/y_{j'})}{(x_i/x_{i'})(y_j/y_{j'})}=\frac{x_k}{x_i}\cdot\frac{y_l}{y_j} $$
で、$\varphi_{ij}$ による引き戻しに一致する。アフィンスキームへの射は環準同型で決まるから、両者は $U_{ij}\cap U_{i'j'}$ 上で一致し、$\varphi$ が定まる。
逆像:$\varphi^{-1}(D_+(z_{ij}))=U_{ij}$ である。実際、$U_{i'j'}$ の点 $P$ について、$\varphi(P)\in D_+(z_{ij})$ であることは $z_{ij}/z_{i'j'}$ の引き戻し $(x_i/x_{i'})(y_j/y_{j'})$ が $P$ で消えないこと、すなわち $x_i/x_{i'}$ と $y_j/y_{j'}$ がともに $P$ で消えないことと同値であり、これは $P\in D_+(x_i)\times D_+(y_j)=U_{ij}$ と同値である。
閉埋め込み:$D_+(z_{ij})$ の上で $\varphi$ は $\varphi_{ij}$ であり、対応する環準同型 $\mathbb{Z}[z_{kl}/z_{ij}]\to\mathbb{Z}[x_k/x_i,y_l/y_j]$ は全射である。$x_k/x_i$ は $z_{kj}/z_{ij}$ の像、$y_l/y_j$ は $z_{il}/z_{ij}$ の像だからである。全射な環準同型に対応するアフィンスキームの射は閉埋め込みなので、$\varphi$ は各 $D_+(z_{ij})$ の上で閉埋め込みである。$D_+(z_{ij})$ たちは $\mathbb{P}^N_{\mathbb{Z}}$ を覆い、閉埋め込みであることは底の上で局所的だから、$\varphi$ は閉埋め込みである。
底変換:$\mathbb{P}^n_Y\times_Y\mathbb{P}^m_Y=(\mathbb{P}^n_{\mathbb{Z}}\times_{\mathbb{Z}}\mathbb{P}^m_{\mathbb{Z}})\times_{\mathbb{Z}}Y$ であり、閉埋め込みの底変換は閉埋め込みである(Har77 II 演習 3.11、閉埋め込み)。

合成・底変換・積で閉じること
  1. 射影射の合成は射影射である。
  2. 射影射の底変換は射影射である。すなわち $f\colon X\to Y$ が射影的で $Y'\to Y$ が任意の射なら $X\times_YY'\to Y'$ は射影的である。
  3. $S$ 上の射影射 $f\colon X\to Y$、$f'\colon X'\to Y'$ の積 $f\times_Sf'\colon X\times_SX'\to Y\times_SY'$ は射影射である。
  4. 閉埋め込みは射影射である。射影スキーム $X\to Y$ の閉部分スキーム $Z$ について $Z\to Y$ は射影的である。
  5. $f\colon X\to Y$、$g\colon Y\to S$ について、$g\circ f$ が射影的で $g$ が分離なら $f$ は射影的である。
    準射影射についても、底のスキーム(1・3 では $S$、2・4・5 では $Y$)が Noether スキームであれば 1〜5 が成り立つ(5 では $g$ を分離とする。2 は底の仮定なしに成り立つ)。
Segre埋め込みによる証明

4:閉埋め込み $i\colon Z\to Y$ は $Z\to\mathbb{P}^0_Y=Y$ と読めるから射影的である。$Z\to X\to\mathbb{P}^n_Y$ は閉埋め込みの合成なので閉埋め込みであり、$Z\to Y$ は射影的である。
2:$X\to\mathbb{P}^n_Y$ を閉埋め込みとすると、その底変換 $X\times_YY'\to\mathbb{P}^n_Y\times_YY'=\mathbb{P}^n_{Y'}$ は閉埋め込みであり(Har77 II 演習 3.11)、$X\times_YY'\to Y'$ はこれと射影の合成である。
1:$f\colon X\to Y$、$g\colon Y\to S$ を射影射とし、閉埋め込み $i\colon X\to\mathbb{P}^n_Y$、$j\colon Y\to\mathbb{P}^m_S$ をとる。$\mathbb{P}^n_Y=\mathbb{P}^n_S\times_SY$ であり、$\mathrm{id}\times j\colon\mathbb{P}^n_S\times_SY\to\mathbb{P}^n_S\times_S\mathbb{P}^m_S$ は $j$ の射影 $\mathbb{P}^n_S\times_S\mathbb{P}^m_S\to\mathbb{P}^m_S$ による底変換だから閉埋め込みである。これに prop-projective-morphism-segre の $\varphi_S\colon\mathbb{P}^n_S\times_S\mathbb{P}^m_S\to\mathbb{P}^N_S$ を合成すると、閉埋め込み
$$ X\xrightarrow{\ i\ }\mathbb{P}^n_Y=\mathbb{P}^n_S\times_SY\xrightarrow{\ \mathrm{id}\times j\ }\mathbb{P}^n_S\times_S\mathbb{P}^m_S\xrightarrow{\ \varphi_S\ }\mathbb{P}^N_S $$
が得られ、$g\circ f$ はこれと射影 $\mathbb{P}^N_S\to S$ の合成である。よって $g\circ f$ は射影的である(Har77 II 演習 4.9)。
3:$f\times_Sf'$ は $X\times_SX'\to Y\times_SX'$($f$ の底変換)と $Y\times_SX'\to Y\times_SY'$($f'$ の底変換)の合成だから、1 と 2 により射影的である。
5:$g$ が分離なのでグラフ射 $\Gamma_f=(\mathrm{id}_X,f)\colon X\to X\times_SY$ は対角射 $\Delta_g$ の底変換であり閉埋め込みである(固有射 の記事の定理(合成・底変換・積で閉じること)の証明の 4 と同じ議論)。射影 $p_2\colon X\times_SY\to Y$ は $g\circ f$ の $g$ による底変換だから 2 により射影的である。$f=p_2\circ\Gamma_f$ なので、4 と 1 により $f$ は射影的である。
準射影射の場合:2 は、$X\to X'\to Y$(開埋め込みと射影射)の底変換が $X\times_YY'\to X'\times_YY'\to Y'$(開埋め込みの底変換は開埋め込み、射影射の底変換は 2 により射影射)となることから、底の仮定なしに従う。1 では、$X\xrightarrow{j}X'\xrightarrow{g}Y$ と $Y\xrightarrow{u}Y'\xrightarrow{h}S$ をそれぞれの分解、$i\colon X'\to\mathbb{P}^n_Y$ を $g$ の閉埋め込みとする。$\mathbb{P}^n_Y=\mathbb{P}^n_{Y'}\times_{Y'}Y$ は $\mathbb{P}^n_{Y'}$ の開部分スキームだから、合成 $X\to X'\to\mathbb{P}^n_Y\to\mathbb{P}^n_{Y'}$ は開埋め込み・閉埋め込み・開埋め込みの合成、すなわちはめ込みであり、$\mathbb{P}^n_{Y'}\to Y'\to S$ は射影射の合成として射影的である。$S$ が Noether なら $\mathbb{P}^n_{Y'}$ は Noether スキーム、その開部分スキームの閉部分スキームの開部分スキームである $X$ も Noether スキームで、とくに準コンパクトだから、はめ込み $X\to\mathbb{P}^n_{Y'}$ は準コンパクトである。準コンパクトなはめ込みは、そのスキーム論的像 $\overline{X}\subset\mathbb{P}^n_{Y'}$(閉部分スキーム)への開埋め込み $X\to\overline{X}$ と閉埋め込み $\overline{X}\to\mathbb{P}^n_{Y'}$ に分解する(Stacks Morphisms of Schemes「Scheme theoretic image」の節)。$\overline{X}\to\mathbb{P}^n_{Y'}\to S$ は射影的なので、$X\to S$ は準射影的である。3 は 1 と 2 から従う。4 の前半は閉埋め込みが射影的であることから、後半は $Z\to X\to X'$ が準コンパクトなはめ込み($Y$ が Noether なら $X'$、したがって $Z$ も Noether)であることから、1 と同様にスキーム論的像をとって従う。5 は、$\Gamma_f$ が閉埋め込みで $p_2$ が 2 により準射影的なので、$f=p_2\circ\Gamma_f$ に 4 の後半を適用すればよい。

EGAの定義での合成

def-projective-morphism-ega の意味の射影射についても、底変換、閉埋め込み、積については同じ議論が通用する($\mathbb{P}(\mathcal{E})\times_YY'=\mathbb{P}(\mathcal{E}|_{Y'})$、$\mathbb{P}(\mathcal{E})\times_S\mathbb{P}(\mathcal{F})\to\mathbb{P}(\mathcal{E}\otimes\mathcal{F})$ が閉埋め込み)。しかし合成については、$S$ が準コンパクトである(または $S$ 上豊富な可逆層がある)という仮定のもとで示されている(EGA2 §5.5、Stacks Morphisms of Schemes「Projective morphisms」の節)。$Y$ 上の有限型準連接層 $\mathcal{E}$ のひねり $\mathcal{E}\otimes\mathcal{O}_Y(n)$ を、$S$ 上の有限型準連接層の引き戻しの商として($S$ がアフィンなら $\mathcal{O}_Y^{\oplus r}$ の商として)表すために $Y$ の準コンパクト性が要るからである。この点も 2 つの定義の差の 1 つである。

次数付き代数の全射と閉埋め込み

次数付き環の全射が誘導する閉埋め込み

$\theta\colon S\to T$ を次数付き環の全射な次数付き準同型($\theta(S_d)=T_d$)とする。このとき $\theta$ は射 $\operatorname{Proj}T\to\operatorname{Proj}S$ を誘導し、これは閉埋め込みである。したがって、$Y$ 上の準連接な次数付き代数の全射 $\mathcal{S}\to\mathcal{T}$ は閉埋め込み $\mathbf{Proj}_Y\mathcal{T}\to\mathbf{Proj}_Y\mathcal{S}$ を誘導する。とくに $\mathcal{S}$ が有限型の $\mathcal{S}_1$ で生成されるとき、全射 $\operatorname{Sym}\mathcal{S}_1\to\mathcal{S}$ は閉埋め込み $\mathbf{Proj}_Y\mathcal{S}\to\mathbb{P}(\mathcal{S}_1)$ を誘導する。

斉次局所化による証明

$\mathfrak{p}\in\operatorname{Proj}T$($T_+=\bigoplus_{d>0}T_d$ を含まない斉次素イデアル)に対し $\theta^{-1}(\mathfrak{p})$ は $S$ の斉次素イデアルで、$\theta(S_+)=T_+\not\subset\mathfrak{p}$ だから $S_+$ を含まない。よって $\mathfrak{p}\mapsto\theta^{-1}(\mathfrak{p})$ は写像 $\operatorname{Proj}T\to\operatorname{Proj}S$ を定める。斉次元 $g\in S_+$ をとると、$\theta^{-1}(\mathfrak{p})\in D_+(g)$ であることは $\theta(g)\notin\mathfrak{p}$、すなわち $\mathfrak{p}\in D_+(\theta(g))$ と同値なので、$D_+(g)$ の逆像は $D_+(\theta(g))$ である。$D_+(g)=\operatorname{Spec}S_{(g)}$、$D_+(\theta(g))=\operatorname{Spec}T_{(\theta(g))}$ であり($S_{(g)}$ は局所化 $S_g$ の次数 $0$ の部分)、写像は環準同型
$$ \theta_{(g)}\colon S_{(g)}\to T_{(\theta(g))},\qquad \frac{s}{g^k}\mapsto\frac{\theta(s)}{\theta(g)^k}\quad(s\in S_{k\deg g}) $$
が誘導するスキームの射である。$\theta$ が全射なので、$T_{(\theta(g))}$ の任意の元 $t/\theta(g)^k$($t\in T_{k\deg g}$)は $t=\theta(s)$ となる $s\in S_{k\deg g}$ をとれば $\theta_{(g)}(s/g^k)$ に等しい。よって $\theta_{(g)}$ は全射であり、$D_+(\theta(g))\to D_+(g)$ は閉埋め込みである。これらの射は $D_+(g)$ たちの交わりの上で両立するので(同じ写像 $\mathfrak{p}\mapsto\theta^{-1}(\mathfrak{p})$ と、局所化の普遍性により定まる同じ環準同型を与える)貼り合わさって射 $\operatorname{Proj}T\to\operatorname{Proj}S$ を定める。$D_+(g)$($g\in S_+$ 斉次)は $\operatorname{Proj}S$ を覆い、その各々の上で射は閉埋め込みなので、閉埋め込みであることの底の上での局所性により、$\operatorname{Proj}T\to\operatorname{Proj}S$ は閉埋め込みである。
相対版は、$Y$ のアフィン開集合 $V$ ごとに全射 $\mathcal{S}(V)\to\mathcal{T}(V)$ に上を適用し、相対 Proj の構成の貼り合わせと両立することから従う。最後の主張は、$\mathcal{S}$ が $\mathcal{S}_1$ で生成されるとき、対称代数の普遍性から定まる次数付き準同型 $\operatorname{Sym}\mathcal{S}_1\to\mathcal{S}$ が全射であることによる。

EGAの射影射の局所的な形

$f\colon X\to Y$ を def-projective-morphism-ega の意味の射影射とする。

  1. $Y$ の任意の点はアフィン開近傍 $V$ をもち、$f^{-1}(V)\to V$ は def-projective-morphism の意味で射影的である。
  2. $Y$ がアフィンなら $f$ は def-projective-morphism の意味で射影的である。
有限型準連接層の局所的な表示による証明

閉埋め込み $X\to\mathbb{P}(\mathcal{E})$($\mathcal{E}$ は有限型準連接層)をとる。$V=\operatorname{Spec}B$ を $Y$ のアフィン開集合とすると、$\mathcal{E}|_V=\widetilde{M}$ となる $B$ 加群 $M$ があり、$\mathcal{E}$ が有限型なので $M$ は有限生成 $B$ 加群(有限生成加群)である(準連接層)。生成元 $m_0,\dots,m_n$ をとると全射 $B^{\oplus(n+1)}\to M$ があり、これは次数付き $B$ 代数の全射 $B[x_0,\dots,x_n]=\operatorname{Sym}B^{\oplus(n+1)}\to\operatorname{Sym}M$ を誘導する。prop-projective-morphism-proj-surjection により閉埋め込み
$$ \mathbb{P}(\mathcal{E})\times_YV=\operatorname{Proj}\operatorname{Sym}M\to\operatorname{Proj}B[x_0,\dots,x_n]=\mathbb{P}^n_V $$
が得られる。$f^{-1}(V)=X\times_YV\to\mathbb{P}(\mathcal{E})\times_YV$ は閉埋め込みの底変換だから閉埋め込みであり、合成 $f^{-1}(V)\to\mathbb{P}^n_V$ も閉埋め込みである。よって $f^{-1}(V)\to V$ は def-projective-morphism の意味で射影的である。2 は $V=Y$ ととれば従う。

$Y$ が準コンパクトで豊富な可逆層 $\mathcal{L}$ をもつときも、有限型準連接層 $\mathcal{E}$ は十分大きい $n$ について $(\mathcal{L}^{-n})^{\oplus r}$ の商になる(豊富な可逆層、Har77 II 定理 5.17)ので、$\mathbb{P}(\mathcal{E})\cong\mathbb{P}(\mathcal{E}\otimes\mathcal{L}^{n})$ は $\mathbb{P}^{r-1}_Y$ の閉部分スキームとなり、EGA の意味の射影射は def-projective-morphism の意味でも射影的である(rem-projective-morphism-two-definitions)。

相対的に豊富な可逆層による特徴づけ

射影射 $f\colon X\to Y$ には、閉埋め込み $i\colon X\to\mathbb{P}^n_Y$ による $\mathcal{O}(1)$ の引き戻し $\mathcal{O}_X(1):=i^*\mathcal{O}_{\mathbb{P}^n_Y}(1)$ が付随する。逆に、可逆層の性質から射影性を判定できる。

相対的に非常に豊富な可逆層

$f\colon X\to Y$ をスキームの射、$\mathcal{L}$ を $X$ 上の可逆層とする。$\mathcal{L}$ が $Y$ 上(または $f$ に関して)非常に豊富(very ample relative to $Y$)であるとは、ある $n$ と $Y$ 上のはめ込み $i\colon X\to\mathbb{P}^n_Y$(開埋め込みと閉埋め込みの合成)が存在して $\mathcal{L}\cong i^*\mathcal{O}(1)$ となることをいう。$\mathcal{L}$ が $f$ に関して豊富($f$-ample)であるとは、$Y$ の任意のアフィン開集合 $V$ について $\mathcal{L}|_{f^{-1}(V)}$ が $f^{-1}(V)$ 上豊富であることをいう。ここで Noether スキーム $Z$ 上の可逆層 $\mathcal{M}$ が豊富(ample)であるとは、$Z$ 上の任意の連接層 $\mathcal{F}$ に対しある $n_0$ があって、$n\ge n_0$ ならば $\mathcal{F}\otimes\mathcal{M}^{\otimes n}$ が大域切断で生成される(大域生成)ことをいう(豊富な可逆層、Har77 II §7)。

この定義は Har77 II §7 のものである(EGA2 4.4.2 は $\mathbb{P}^n_Y$ の代わりに $\mathbb{P}(\mathcal{E})$ へのはめ込みを用いる)。

固有射と非常に豊富な可逆層

$f\colon X\to Y$ を固有射とし、$X$ 上に $Y$ 上非常に豊富な可逆層 $\mathcal{L}$ が存在するとする。このとき $f$ は射影射であり、$\mathcal{L}\cong\mathcal{O}_X(1)$ となる閉埋め込み $X\to\mathbb{P}^n_Y$ がとれる。

はめ込みの像の閉性による証明

$i\colon X\to\mathbb{P}^n_Y$ を $\mathcal{L}\cong i^*\mathcal{O}(1)$ となるはめ込みとし、$p\colon\mathbb{P}^n_Y\to Y$ を射影とする。$p\circ i=f$ は固有で $p$ は分離(固有射なので。thm-projective-morphism-proper)だから、固有射 の記事の定理(合成・底変換・積で閉じること)の 4 により $i$ は固有であり、像 $i(X)$ は $\mathbb{P}^n_Y$ の閉集合である。はめ込み $i$ は開部分スキーム $U\subset\mathbb{P}^n_Y$ への閉埋め込み $X\to U$ と開埋め込み $U\to\mathbb{P}^n_Y$ の合成である。$\mathbb{P}^n_Y$ の各点 $q$ について、$q\in i(X)$ なら $q\in U$ であり $U$ 上で $i$ は閉埋め込みである。$q\notin i(X)$ なら $W=\mathbb{P}^n_Y\setminus i(X)$ は $q$ の開近傍で $i^{-1}(W)=\emptyset$ であり、$W$ 上で $i$ は(空スキームの)閉埋め込みである。閉埋め込みであることは底の上で局所的だから $i$ は閉埋め込みであり、$f=p\circ i$ は射影射である。

豊富な可逆層の冪は非常に豊富である

$A$ を Noether 環、$X$ を $A$ 上有限型のスキーム、$\mathcal{L}$ を $X$ 上の可逆層とする。$\mathcal{L}$ が豊富であるための必要十分条件は、ある $m>0$ について $\mathcal{L}^{\otimes m}$ が $\operatorname{Spec}A$ 上非常に豊富であることである。

定理の出典

証明は Har77 II 定理 7.6 に譲る(EGA2 4.6.11 の Noether 環上の場合)。非常に豊富な可逆層が豊富であることは、$\mathbb{P}^n_A$ 上で $\mathcal{O}(1)$ が豊富であること(Serre の定理、Har77 II 定理 5.17)とその閉部分スキームへの制限から従う。

固有スキームの射影性の判定

$A$ を Noether 環、$X$ を $A$ 上固有なスキームとする。$X$ が $A$ 上射影的であるための必要十分条件は、$X$ が豊富な可逆層をもつことである。また $A$ 上有限型のスキーム $X$ が $A$ 上準射影的であるための必要十分条件は、$X$ が豊富な可逆層をもつことである。

判定の証明

$X$ が $A$ 上射影的なら、閉埋め込み $i\colon X\to\mathbb{P}^n_A$ による $\mathcal{O}_X(1)=i^*\mathcal{O}(1)$ は $\operatorname{Spec}A$ 上非常に豊富であり、thm-projective-morphism-har-7-6($m=1$)により豊富である。逆に $X$ が豊富な可逆層 $\mathcal{L}$ をもてば、$X$ は固有なので有限型であり、thm-projective-morphism-har-7-6 により $\mathcal{L}^{\otimes m}$ は $\operatorname{Spec}A$ 上非常に豊富である。prop-projective-morphism-proper-very-ample により $X\to\operatorname{Spec}A$ は射影射である。
準射影的な場合:$X$ が準射影的なら、はめ込み $X\to\mathbb{P}^n_A$ による $\mathcal{O}(1)$ の引き戻しは非常に豊富なので豊富である。逆に $X$ が有限型で豊富な可逆層をもてば、ある冪が非常に豊富で、はめ込み $i\colon X\to\mathbb{P}^n_A$ が存在する。$i$ は開部分スキーム $U\subset\mathbb{P}^n_A$ への閉埋め込みと開埋め込み $U\to\mathbb{P}^n_A$ の合成であり、$X$ は $A$ 上有限型なので Noether スキーム、とくに準コンパクトであり、はめ込み $i$ は準コンパクトである。よって $i$ のスキーム論的像 $\overline{X}\subset\mathbb{P}^n_A$($i(X)$ の閉包を台とする閉部分スキーム。Har77 II 演習 3.11、Stacks Morphisms of Schemes「Scheme theoretic image」の節)について $X\to\overline{X}$ は開埋め込みである($X$ が被約なら $\overline{X}$ は閉包に被約スキームの構造を入れたものである)。$\overline{X}\to\operatorname{Spec}A$ は射影的なので $X$ は準射影的である。

相対的な射影性の判定

$Y$ を準コンパクトなスキーム、$f\colon X\to Y$ をスキームの射とする。$f$ が def-projective-morphism-ega の意味で射影的であるための必要十分条件は、$f$ が固有で、$X$ 上に $f$ に関して非常に豊富な可逆層($\mathbb{P}(\mathcal{E})$ へのはめ込みによるもの)が存在することである。$Y$ が準コンパクトで、さらに $Y$ 上豊富な可逆層があるならば、これは $f$ が固有で $X$ 上に $f$ に関して豊富な可逆層が存在することとも同値である。

判定の出典

証明は EGA2 §5.5(5.5.3 と 5.5.4)および Stacks Morphisms of Schemes「Projective morphisms」の節に譲る。$Y$ が Noether スキームなら、$f$ に関して豊富な可逆層のある冪が $f$ に関して非常に豊富である(EGA2 4.6.11、Har77 II 定理 7.6)ので、$Y$ が Noether で $Y$ 上豊富な可逆層をもつ(たとえば Noether 環上準射影的な)場合には、$f$ が def-projective-morphism の意味で射影的であることは「$f$ が固有で $f$ に関して豊富な可逆層をもつ」ことと同値になる(cor-projective-morphism-ample の相対版)。

固有射との関係とコホモロジーの有限性

Chowの補題による帰着

固有射は一般には射影的でない(ex-projective-morphism-nonprojective-proper)が、Chow の補題(Chowの補題)によれば、Noether スキーム $S$ 上の固有射 $f\colon X\to S$ に対して、$S$ 上射影的なスキーム $X'$ と射影的な全射 $g\colon X'\to X$ で、$X$ のある稠密な開集合の上で同型になるものが存在する(固有射 の記事の定理(Chow の補題の言明)、Har77 II 演習 4.10、EGA2 5.6.1)。したがって固有射に関する主張の多く(固有射の有限性定理など)は、射影射の場合を示したうえで $g$ を用いて一般の固有射に移すことで証明される。

射影スキーム上の連接層のコホモロジーの有限性

$A$ を Noether 環、$X$ を $A$ 上射影的なスキーム、$\mathcal{O}_X(1)$ を閉埋め込み $X\to\mathbb{P}^n_A$ による $\mathcal{O}(1)$ の引き戻し、$\mathcal{F}$ を $X$ 上の連接層とする。

  1. 各 $i\ge0$ について層コホモロジー $H^i(X,\mathcal{F})$ は有限生成 $A$ 加群である。とくに $A=k$ が体なら $H^i(X,\mathcal{F})$ は有限次元 $k$ 線型空間であり、$H^0(X,\mathcal{O}_X)$ も有限次元である。
  2. ある整数 $n_0$ が存在して、任意の $n\ge n_0$ と任意の $i>0$ について $H^i(X,\mathcal{F}(n))=0$ である($\mathcal{F}(n):=\mathcal{F}\otimes\mathcal{O}_X(1)^{\otimes n}$)。
    より一般に、$f\colon X\to Y$ が射影射で $Y$ が Noether スキームなら、$X$ 上の連接層 $\mathcal{F}$ の高次順像 $R^if_*\mathcal{F}$ はすべて $Y$ 上連接である。
有限性定理の出典

証明は Har77 III 定理 5.2(Serre の定理。$\mathbb{P}^n_A$ 上の $\mathcal{O}(d)$ のČechコホモロジーの計算 III 定理 5.1 に帰着する)、相対版は Har77 III 定理 8.8、EGA3 2.2.1 に譲る。固有射への拡張(EGA3 3.2.1)は 固有射 の記事にあり、証明は Chow の補題で射影射の場合に帰着する。ex-projective-morphism-affine-line で用いた。

関連項目

参考文献

[1]
Robin Hartshorne, Algebraic Geometry, Springer, 1977, II §4(射影射の定義、定理 4.9、注意 4.10.2、演習 4.9・4.10)、II §3 演習 3.11、II §5(定理 5.17、系 5.16、演習 5.13)、II §7(相対 Proj、定理 7.6、補題 7.9、命題 7.16)、III 定理 5.1・5.2・8.8、Appendix B 例 3.4.1
[2]
Alexander Grothendieck, Jean Dieudonné, Éléments de géométrie algébrique II. Étude globale élémentaire de quelques classes de morphismes, Publications Mathématiques de l'IHÉS 8, 1961, 2.4.7(Veronese 部分環)、§3(相対 Proj)、§3.6(閉部分スキーム)、4.4.2(非常に豊富な層)、4.6.11(豊富な層の冪)、§5.5(射影射の定義と判定、5.5.1・5.5.3・5.5.4)、5.6.1(Chow の補題)、6.1.11(有限射は射影的)
[3]
Alexander Grothendieck, Jean Dieudonné, Éléments de géométrie algébrique III : Étude cohomologique des faisceaux cohérents, Première partie, Publications Mathématiques de l'IHÉS 11, pp. 5–167, 1961, 2.2.1(射影射の有限性定理)、3.2.1(固有射の有限性定理)
[5]
The Stacks Project Authors, The Stacks Project, The Stacks Project Authors, 閲覧日 2026年9月22日

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